品牌 | 纖華 |
---|---|
包裝規格 | 袋裝 |
產品等級 | 化學純 |
執行質量標準 | 國標 |
含量 | ** |
產商/產地 | 北京 |
型號 | Al2O3 |
產品大類 | 高純氧化鋁 |
氧化鋁粒
化學符號:Al2O3
純度:4N
規格:1-3mm
外 觀:透明晶體
分 子 量:101.96
密 度:4g/cm3
熔 點:2045℃
沸 點:2980℃
蒸發溫度:1800℃
蒸發方式:電子束
透明范圍/nm:200-7000
折射率n(波長/nm):1.59(600)/1.56(1600)
基片溫度為300℃時,λ=600nm,n=1.62;λ=1.6μm,n=1.59;
基片溫度為40℃時, λ=600nm,n=1.59;λ=1.6μm,n=1.56;
蒸發源材料:W 、Mo
溶 解 于:純酸、堿
薄膜的機械和化學性質:形成光滑的硬膜
性 能:高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高強度、抗磨損、抗氧化、絕緣性好和表面積大等特點;不溶于水,微溶于強酸和強堿溶液,并能被**和**氫鉀浸蝕;
高純超細氧化鋁的優點:純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結;
應 用:增透膜,多層膜,防反膜,眼鏡膜,保護膜
用 途:廣泛應用于生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、集成電路芯片、航空光源器件、濕敏性傳感器及紅外吸收材料;
Al2O3膜的主要性能:
密 度/g•cm-3:3.1-4.0
電 阻 率/Ω•cm:1012-1013
折 射 率:1.72-1.76
禁帶寬度eV:7
介電常數:7.5-9.6
產生龜裂厚度/μm:0.4
介電強度/V•cm-1:1×106-7×106
表面負電荷密度:3×1011-1012
紅外吸收峰/μm:14-16
Al2O3-Si界面密度/(cm2•eV)-1: 1010-1011
注:規格可根據客戶需求定做!